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微弧氧化：通過(guò)電解液與相應(yīng)電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產(chǎn)生的瞬時(shí)高溫高壓作用，原位生長(zhǎng)出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。

微弧復(fù)合處理：微弧氧化陶瓷層的多孔結(jié)構(gòu), 易與多種材料結(jié)合形成復(fù)合膜層，提供多元化的功能，展現(xiàn)出陶瓷層作為“過(guò)渡處理層”的優(yōu)越性。微弧復(fù)合是將微弧氧化及滿(mǎn)足產(chǎn)品在不同環(huán)境處理下而選定的后續(xù)涂裝復(fù)合而成一種短流程低污染排放的環(huán)衛(wèi)型表面處理技術(shù)。

微弧離子鍍: 將真空腔內(nèi)的伏安特性置于由穩(wěn)態(tài)的輝光放電向穩(wěn)態(tài)的弧光放電過(guò)渡時(shí)，氣體放電雙峰曲線(xiàn)上客觀(guān)存在的非穩(wěn)態(tài)正反歐姆轉(zhuǎn)變區(qū)間，利用因靶面放電而產(chǎn)生的熱積累至局部微熔的延緩間隔，實(shí)現(xiàn)靶面鍍料粒子經(jīng)濺射的級(jí)聯(lián)碰撞脫靶機(jī)制演變?yōu)闊岚l(fā)射脫靶（未達(dá)到熔融噴射程度）機(jī)制，從原理上既提高了脫靶粒子的離化率，又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應(yīng)”。 微弧離子鍍的開(kāi)發(fā)是結(jié)合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)也避免了兩者在成膜過(guò)程中的不足之處，使成膜質(zhì)量與效率得以大幅提高。